順賀行-化工泵浦的專家

【用途】半導體、液晶面板工廠的矽晶圓製程中，常使用含氟酸的清洗液及蝕刻液。含氟廢液，一般大多會使用氟化鈣法(CaF2)來處理，即添加消石灰與廢液結合生成CaF2污泥來去除氟離子。

[半導體工廠]  氟系廢水處理之氟化鈣法

①消石灰加藥泵浦 Ca(OH)₂

•  SMC系列 (葉片/耐磨板採用高鉻合金Hi-Cr)

②污泥輸送泵浦 CaF₂

• SM-RZ系列 (耐磨橡膠內襯)

Mitsuwa Pump的優點

消石灰及氟化鈣污泥的泵浦常有軸封洩漏的問題，造成環境髒亂。Mitsuwa Pump採用無水注入式雙機械軸封(油浴式)，能夠完美的解決這類問題，且能省下軸封沖洗水的管線配置及廢水處理費用。

 

[同場加映] 氟酸的使用場合

• 高純度電解鋁(>99.98%)的生產過程使用氟酸做為清洗液。
• 玻璃蝕刻業用氟酸做為蝕刻液
• 鋼鐵業使用氟酸做為除鏽劑
• 石化業使用氟酸做為催化劑

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